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Mg
TiO
社本 真一; 山内 宏樹; 池内 和彦*; Lee, M. K.*; Chang, L.-J.*; Garlea, V. O.*; Hwang, I. Y.*; Lee, K. H.*; Chung, J.-H.*
Journal of the Physical Society of Japan, 90(9), p.093703_1 - 093703_4, 2021/09
被引用回数：0 パーセンタイル：0(Physics, Multidisciplinary)ハニカム格子反強磁性体MnMgTiOの5T磁場下でのスピンフロップ相の磁気構造を弾性散乱と非弾性散乱を相補的に用いることで、初めて提案した。
Hwang, I. Y.*; Lee, K. H.*; Chung, J.-H.*; 池内 和彦*; Garlea, V. O.*; 山内 宏樹; 赤津 光洋*; 社本 真一
Journal of the Physical Society of Japan, 90(6), p.064708_1 - 064708_6, 2021/06
被引用回数：2 パーセンタイル：29.32(Physics, Multidisciplinary)ハニカム格子反強磁性体MnTiOのスピン波を調べ、スピン間の交換相互作用を正確に求めた。
岩井 保則; 久保 仁志*; 大嶋 優輔*; 野口 宏史*; 枝尾 祐希; 谷内 淳一*
Fusion Science and Technology, 68(3), p.596 - 600, 2015/10
被引用回数：2 パーセンタイル：17.52(Nuclear Science & Technology)トリチウム酸化反応器に適用可能な疎水性白金ハニカム触媒を開発した。ハニカム形状の触媒は圧力損失を減少させることができる。試作した疎水性触媒はメタルハニカム担体と炭化ケイ素ハニカム担体の二種類である。白金微粒子を数ナノメートルに微細化することで微量トリチウムの触媒酸化活性を大幅に向上させることができた。水素濃度は総括反応速度にほとんど影響を与えない。白金表面上への水蒸気と水素の競合吸着の影響から反応速度定数は底値を持つ。底値を示す水素濃度は、乾燥ガス下では100ppmであった。これらのハニカム触媒の活性はペレット状の疎水性触媒と同等であり、疎水性ハニカム触媒のトリチウム酸化反応器への適用可能性を示すことができた。
田坂 完二; 村田 秀男; 刑部 真弘*
Transactions of the American Nuclear Society, 60, p.727 - 728, 1989/00
PIUS型安全炉の熱水力挙動を小型可視装置により調べた。ハニカムでのリチャードソン数を実炉の値と等しくし、低圧装置ではあるが定常運転が可能であることを明らかにした。またハニカムでの差圧を一定にするようにポンプの回転数を制御する制御系を提唱し、その有効性を実験により確めた。1次系ポンプトリップ事故ならびに2次系の給水喪失事故を模擬した実験においてポロン水が炉心に入っていくことを確認した。
中村 博雄; 清水 正亜; 山本 正弘; 高津 英幸
Journal of Nuclear Science and Technology, 25(1), p.81 - 91, 1988/01
本報告では、JT-60のモリブデン(Mo)第1壁の選定に関連した研究開発(R&D)について述べた。JT-60のパラメータは、B
=4.5T、放電時間=5~10s、追加熱パワー20~30Mwであり、従来装置に比較して厳しい。そのため、材料・熱・強度・真空特性についてR&Dを行なった。まず、高融点金属材としてMoを、低原子番号材として熱分解黒鉛(PyG)とSiC被覆黒鉛を候補材として選択した。これらについて、実機形状第1壁の試作を行ない、加工性・製作性・接触熱抵抗等についてのデータを得た。Moについては、スパッタ比軽減効果のあるハニカム形状第1壁の試作を行なった。次に、Mo,PyG,SiC/C,Moハニカムについて、電子ビーム加熱試験を行なった。以上のR&Dから、JT-60の第1壁材としての総合評価を行ない、熱衝撃特性・放出ガス特性の優れているMoを選定した。PyGおよびSiC/Cは低原子番号材としての将来性を含んでおり、今後、データベースの蓄積が必要である。
大麻 和美; 仙石 盛夫; 前田 彦祐; 大塚 英男; 山本 新; 河西 敏; 永見 正幸; 小田島 一男*; 木村 晴行; 下村 安夫
JAERI-M 7935, 21 Pages, 1978/10
DIVAにおける金属不純物の発生原因に関する研究の報告である。発生原因としては(1)イオンによるスパッタリング、(2)熱の集中による蒸発、(3)アーキングがあり、特定の条件の下に各々が主原因となっていることを明らかにした。特に、プラズマが定常状態にある時には、不純物イオンによるスパッタリングが主原因であることを示した。実際の装置で使用していたシェル及びProtection plateから切り出したサンプルの表面に、スパッタリングによるcone状の突起は、Auの発光強度の空間分布と良い一致を示した。更にハニカム構造をもつテストシェルを用いることにより、金属不純物の発生量を減少させ得ることを明らかにした。
